포토공정 2

반도체 제조의 핵심: 포토 레지스트(Photoresist, PR)란?

반도체 제조 공정에서 가장 중요한 과정 중 하나는 웨이퍼(Wafer)에 회로를 정밀하게 인쇄(Printing)하는 과정입니다. 이를 가능하게 하는 핵심 재료가 바로 포토레지스트(Photoresist)입니다. 이번 글에서는 포토레지스트의 정의와 역할, 그리고 반도체 제조 공정에서 어떻게 활용되는지 알아보겠습니다.포토레지스트(Photoresist)란?포토레지스트는 빛(광, Photo)과 반응하는 감광성 물질(Resist)을 의미하며, 반도체 회로 패턴을 형성하는 데 사용됩니다. 웨이퍼 위에 포토레지스트를 균일하게 도포한 후, 특정 패턴의 빛을 조사하면 해당 부분이 화학적으로 변화합니다. 이 과정을 통해 정밀한 회로 패턴을 형성할 수 있습니다.포토레지스트의 종류 포지티브(Positive) 포토레지스트: 빛을 ..

반도체 8대 공정 4탄 포토공정 완벽 정리, 웨이퍼에 회로를 그리는 방법

반도체 칩 제작의 핵심, 포토공정(Photolithography)에 대해 알아보세요! 빛으로 웨이퍼에 회로를 새기는 놀라운 기술, 나노 단위의 미세 패턴 구현부터 EUV 노광 기술까지, 포토공정의 모든 것을 파헤쳐 봅니다. 반도체 칩의 성능과 집적도를 좌우하는 핵심 공정 , 지금 바로 확인하세요! (Photolithography, EUV, Semiconductor, Wafer, Integrated Circuit)포토공정, 빛의 예술로 칩을 조각하다포토공정은 빛을 이용해 웨이퍼에 회로 패턴을 형성하는 기술입니다. 마치 사진을 인화하듯, 빛에 민감한 감광액(PR, Photoresist)을 통해 웨이퍼 위에 회로를 그려내는 것이죠! 이 과정은 반도체 칩의 성능과 집적도를 결정짓는 가장 중요한 단계 ..